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                等離子體流動控制系統

                等離子體流動控制設備采用質量流量控制法對等離子體進行氣體流量、密度、溫度、壓力的控制。
                等離子體流動控制設備可靠性高、重復性高。寬范圍的參數調節范圍,可使用多種氣體,實現最大范圍的參數選擇。 手自一體控制模式,方便操作。 PLC控制功率、質量流量控制等實現參數的精確控制和記錄。適合各種材質,例如高分子材料、陶瓷、金屬等的表面處理。
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                產品描述
                規格參數
                技術資料
                現場應用
                型號
                LFIX
                產品類型
                非標定制
                規格
                a-3

                超長耐用  輕便簡潔  操作簡單  放心選擇

                 

                等離子體流動控制系統

                 
                 

                萊峰流體

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                   等離子體是電子,離子等帶電粒子,中性粒子,原子,分子和微粒。自由基以及紫外線等高能量物質等組成的準中性且具有集體效應的混合氣體,而等離子體流動控制設備采用質量流量控制法對等離子體進行氣體流量、密度、溫度、壓力的控制。

                 

                特點

                 

                 

                 

                等離子體流動控制設備可靠性高、重復性高。

                 

                寬范圍的參數調節范圍,可使用多種氣體,實現最大范圍的參數選擇。

                 

                手自一體控制模式,方便操作。

                 

                PLC控制功率、質量流量控制等實現參數的精確控制和記錄。

                 

                適合各種材質,例如高分子材料、陶瓷、金屬等的表面處理。

                ☆耐壓高及適用于真空條件下工作。低壓降。工作壓力范圍寬,氣體流量不因溫度、壓力的變化而變化。

                耐用

                耐腐

                ☆主體采用不銹鋼(304或316L)結構,氣密材料采用VITON、聚四氟乙烯等。適用于各種耐腐蝕性氣體。

                ☆具有精度高、重復性好、響應速度快、軟啟動、工作穩定可靠。

                穩定

                精確計量

                安裝便捷

                 

                ☆可任意位置安裝。電氣操作控制顯示,使用方便。易于與電氣系統或自動控制系統配合。

                 

                ☆配合流量積算儀,可對氣體的瞬時流量和累積流量進行精確計量。

                 

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                應用行業:半導體材料,電工陶瓷材料,電子元器件光電子,激光儀器,儀器儀表,光儀及配件,工業自動化裝置,電子電工產品制造設備,電子電工產品設計加工等其他。

                 

                       用于進行精密測量,具有精度高,穩定性好,可靠性高,安裝簡單,操作方便。廣泛用于電子工藝設備、真空鍍膜、石油化工、冶金、制藥、光纖熔煉、分析測量儀器、制氣配氣等行業。

                未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
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